光伏、半導體行業近年來飛速發展，是一個朝陽行業，然而這也是一個高耗能、高污染、用水量極大的行業，以100MW多晶硅生產線為例，每天用水量在1500噸左右，在所產生的廢水中含氫氟廢水占廢水總量的70%左右，含氫氟廢水是刻蝕工序中產生的，一般 PH在2左右，氟離子含量一般在50-800ppm之間，電導在2000-4000us/cm之間。

目前，用于光伏、半導體行業廢水處理系統中對含氟廢水的典型處理方法為沉淀法，其基本原理為：

Ca2++2F=CaF2↓

如上式，在廢水處理過程中需要向廢水中投加CaCl2或其他鈣鹽，使Ca2+與水中的F反應生 成CaF2沉淀，從而使F-從水中去除。該工藝最終能夠將排放水中的氟離子的含量控制在 6～10mg/L，以保證達標排放，然而由于源廢水本身成分較為單一，但該沉淀法工藝過程中人為引入了大量鈣、鎂離子等，這不僅大大降低了廢水進一步回用出水的品質，降低了廢水回用的級別，更為該廢水回用增大了難度和風險。

光伏、半導體行業產生的稀氫氟廢水，具有pH值低、腐蝕性強、電導高的特點，這無疑增加了廢水處理的難度，但稀氫氟廢水具有濁度低、硬度低、廢水中成分相對單一的特性。如您有半導體行業廢水處理方面的問題，歡迎來電咨詢我們三人行環境工程師，給您提供一對一解決方案，希望對您有所幫助。

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